X-RAY MASK DISTORTION ANALYSIS USING THE BOUNDARY ELEMENT METHOD

被引：10

作者：

OHKI, S

YOSHIHARA, H

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1990年 / 8卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.585042

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：446 / 451

页数：6

共 13 条

VISWANATHAN, R ;

ACOSTA, RE ;

SEEGER, D ;

VOELKER, H ;

WILSON, A ;

BABICH, I ;

MALDONADO, J ;

WARLAUMONT, J ;

VLADIMIRSKY, O ;

HOHN, F ;

CROCKATT, D ;

FAIR, R .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1988, 6 (06) :2196-2201

[12]

Yanof A. W., 1986, Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering, V632, P118, DOI 10.1117/12.963676

[13]

YOSHIOKA N, 1988, SPIE, V1089, P215