MOLECULAR-BEAM EPITAXY OF ALTERNATING METAL-SEMICONDUCTOR FILMS

被引:87
作者
LUDEKE, R [1 ]
CHANG, LL [1 ]
ESAKI, L [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HEIGHTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1063/1.1654858
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:201 / 203
页数:3
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