TIN DOPING IN GA0.47IN0.53AS AND AL0.48IN0.52AS GROWN BY MOLECULAR-BEAM EPITAXY

被引:42
作者
CHENG, KY
CHO, AY
WAGNER, WR
机构
关键词
D O I
10.1063/1.328537
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:6328 / 6330
页数:3
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