ADSORPTION OF XENON ON NI(111) STUDIED BY PHOTOEMISSION AND LEED

被引：5

作者：

FARGUES, D ^{[1
]}

DOLLE, P ^{[1
]}

ALNOT, M ^{[1
]}

EHRHARDT, JJ ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV NANCY 1,CNRS,LAB MAURICE LETORT,BP 104,F-54600 VILLERS LES NANCY,FRANCE

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0039-6028(89)90417-2

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：187 / 196

页数：10

共 35 条

[31] ANGULAR-RESOLVED PHOTOEMISSION FROM PHYSISORBED XENON [J].

SCHEFFLER, M ;

HORN, K ;

BRADSHAW, AM ;

KAMBE, K .

[32] XE ADSORPTION ON AG(111) - EXPERIMENT [J].

UNGURIS, J ;

BRUCH, LW ;

MOOG, ER ;

WEBB, MB .

[33] AR AND KR ADSORPTION ON AG(111) [J].

UNGURIS, J ;

BRUCH, LW ;

MOOG, ER ;

WEBB, MB .

[34] SURFACE CHARACTERIZATION BY PHOTOEMISSION OF ADSORBED XENON (PAX) [J].

WANDELT, K .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 1984, 2 (02) :802-807

WANDELT, K ;

HULSE, JE .