NUCLEATION AND INITIAL-GROWTH BEHAVIOR OF THIN-FILM DEPOSITS

被引：227

作者：

LEWIS, B

CAMPBELL, DS

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1967年 / 4卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1492548

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：209 / &

共 23 条

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