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X-RAY ROCKING CURVES FOR SILICON-ON-SAPPHIRE CHARACTERIZATION
被引:9
作者
:
TRILHE, J
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TRILHE, J
BOREL, J
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BOREL, J
GONCHOND, JP
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GONCHOND, JP
机构
:
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1980年
/ 51卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.327917
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
收藏
页码:2003 / 2006
页数:4
相关论文
共 7 条
[1]
BOREL J, 1975, SOS TECHNOLOGY WORKS
[2]
CULLEN GW, 1975, 3RD P INT C VAP GROW, P274
[3]
GONCHOND JP, 1979, THESIS GRENOBLE
[4]
HALF-WIDTH AND PEAK-INTENSITY MEASUREMENT OF A ROCKING CURVE OBTAINED FROM SILICON ON SAPPHIRE USING SOFT-X-RAY BEAMS
KISHINO, S
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机构:
HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN
KISHINO, S
IIDA, S
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HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN
IIDA, S
AOKI, S
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AOKI, S
MIZUTANI, T
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HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN
MIZUTANI, T
WATANABE, T
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0
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0
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HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN
WATANABE, T
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1977,
48
(07)
: 3138
-
3140
[5]
TRILHE J, 1976, 150 JES M LAS VEG
[6]
SAPPHIRE SUBSTRATE MISORIENTATION AND SOS-MOS TRANSISTOR PERFORMANCE
WEITZEL, CE
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RCA LABS,PRINCETON,NJ 08540
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SMITH, RT
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RCA LABS,PRINCETON,NJ 08540
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SMITH, RT
[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1977,
124
(07)
: 1080
-
1086
[7]
WEITZEL CE, 1978, J ELECTROCHEM SOC, V125, P794
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共 7 条
[1]
BOREL J, 1975, SOS TECHNOLOGY WORKS
[2]
CULLEN GW, 1975, 3RD P INT C VAP GROW, P274
[3]
GONCHOND JP, 1979, THESIS GRENOBLE
[4]
HALF-WIDTH AND PEAK-INTENSITY MEASUREMENT OF A ROCKING CURVE OBTAINED FROM SILICON ON SAPPHIRE USING SOFT-X-RAY BEAMS
KISHINO, S
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HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN
WATANABE, T
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1977,
48
(07)
: 3138
-
3140
[5]
TRILHE J, 1976, 150 JES M LAS VEG
[6]
SAPPHIRE SUBSTRATE MISORIENTATION AND SOS-MOS TRANSISTOR PERFORMANCE
WEITZEL, CE
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机构:
RCA LABS,PRINCETON,NJ 08540
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WEITZEL, CE
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RCA LABS,PRINCETON,NJ 08540
RCA LABS,PRINCETON,NJ 08540
SMITH, RT
[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1977,
124
(07)
: 1080
-
1086
[7]
WEITZEL CE, 1978, J ELECTROCHEM SOC, V125, P794
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