PROGRESS IN SELF-DEVELOPING METAL FLUORIDE RESISTS

被引：43

作者：

KRATSCHMER, E ^{[1
]}

ISAACSON, M ^{[1
]}

机构：

[1] CORNELL UNIV,SCH APPL & ENGN PHYS,ITHACA,NY 14853

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1987年 / 5卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583905

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：369 / 373

页数：5

共 6 条

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