INSITU VAPORIZATION OF VERY LOW-MOLECULAR WEIGHT RESISTS USING 1-2 NM DIAMETER ELECTRON-BEAMS

被引:99
作者
ISAACSON, M [1 ]
MURRAY, A [1 ]
机构
[1] CORNELL UNIV,NATL RES & RESOURCE FACIL SUBMICRON STRUCT,ITHACA,NY 14853
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期
关键词
D O I
10.1116/1.571180
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1117 / 1120
页数:4
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