THE DISSOLUTION RATE OF SILICA IN MOLTEN SILICON

被引：40

作者：

HIRATA, H

HOSHIKAWA, K

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1980年 / 19卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.19.1573

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1573 / 1574

页数：2

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共 3 条

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