VAN-DER-PAUW RESISTOR STRUCTURE FOR DETERMINING MASK SUPERPOSITION ERRORS ON SEMICONDUCTOR SLICES

被引：8

作者：

PERLOFF, DS

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(78)90177-6

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1013 / 1018

页数：6

共 10 条

[1]

Abramowitz M., 1964, HDB MATH FUNCTIONS

[2]

KISKER D, 1977, OCT KOD MICR SEM MON

[3] ANALYSIS OF SUPERPOSITION ERRORS IN WAFER FABRICATION [J].

MATSUZAWA, T ;

SUNAMI, H ;

HASHIMOTO, N .

MICROELECTRONICS AND RELIABILITY, 1977, 16 (02) :173-176

PERLOFF, DS .

PERLOFF, DS ;

WAHL, FE ;

CONRAGAN, J .

[6]

PERLOFF DS, 1976, 7TH P INT C EL ION B

[7]

PERLOFF DS, UNPUBLISHED

[8]

RUSSELL TJ, 1977, DEC INT EL DEV M WAS

[9]

THOMAS DR, 1974, NOV GOV MICR APPL C

[10]

van der Pauw L. J., 1958, PHILIPS RES REP, V1958, P1