CRYSTALLOGRAPHIC STUDY OF SEMI-INSULATING POLYCRYSTALLINE SILICON (SIPOS) DOPED WITH OXYGEN-ATOMS

被引:139
作者
HAMASAKI, M
ADACHI, T
WAKAYAMA, S
KIKUCHI, M
机构
关键词
D O I
10.1063/1.325356
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:3987 / 3992
页数:6
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