DOSE DEPENDENCE OF MOSSBAUER-SPECTRA OF ION-IMPLANTED CO-57 AND FE-57 IN SILICON

被引：10

作者：

DAMGAARD, S ^{[1
]}

PETERSEN, JW ^{[1
]}

WEYER, G ^{[1
]}

HOLCK, O ^{[1
]}

机构：

[1] NIELS BOHR INST,COPENHAGEN,DENMARK

来源：

PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH | 1980年 / 58卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1002/pssa.2210580215

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：443 / 449

页数：7

共 16 条

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