INTERNAL FIELD EMISSION AT NARROW SILICON AND GERMANIUM P-N JUNCTIONS

被引:118
作者
CHYNOWETH, AG
FELDMANN, WL
LEE, CA
LOGAN, RA
PEARSON, GL
AIGRAIN, P
机构
来源
PHYSICAL REVIEW | 1960年 / 118卷 / 02期
关键词
D O I
10.1103/PhysRev.118.425
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页码:425 / 434
页数:10
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