PATTERN FABRICATION BY OBLIQUE-INCIDENCE ION-BEAM ETCHING

被引：33

作者：

GOKAN, H

ESHO, S

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 18卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570693

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：23 / 27

页数：5

共 6 条

[1] ION-BEAM ETCHING [J].

GLOERSEN, PG .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (01) :28-35

[2]

GLOERSEN PG, 1976, SOLID STATE TECH APR, P68

HOSAKA, S ;

HASHIMOTO, S .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1978, 15 (05) :1712-1717

[4] ION-BEAM ETCHING OF GROOVE PATTERNS INTO GARNET FILMS [J].

KRUMME, JP ;

DIMIGEN, H .

LEHMANN, HW ;

KRAUSBAUER, L ;

WIDMER, R .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1977, 14 (01) :281-284

[6]

SPENCER EG, 1971, J VAC SCI TECHNOL, V8, P52