DIFFUSION OF SILICON IN ALUMINUM

被引：171

作者：

FUJIKAWA, SI ^{[1
]}

HIRANO, KI ^{[1
]}

FUKUSHIMA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] TYOTA CENT LAB,NAGOYA 468,JAPAN

来源：

METALLURGICAL TRANSACTIONS A-PHYSICAL METALLURGY AND MATERIALS SCIENCE | 1978年 / 9卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1007/BF02663412

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：1811 / 1815

页数：5

共 28 条

[21] Mehl RF, 1941, METALS ALLOYS, V13, P41
[22] Pearson W.B., 1958, HDB LATTICE SPACINGS, P382
[23] Peck R. L., 1971, Metal Science Journal, V5, P155
[24] ALUMINUM .2. REVIEW OF DEFORMATION PROPERTIES OF HIGH-PURITY ALUMINUM AND DILUTE ALUMINUM-ALLOYS
REED, RP
[J]. CRYOGENICS, 1972, 12 (04) : 259 - &
[25] SHEWMON PG, 1963, DIFFUSION SOLIDS, P106
[26] SUN CY, 1971, THESIS U ILLINOIS
[27] TAKAMURA J, 1978, J NUCL MATER, V69
[28] DIFFUSION-LIMITED SI PRECIPITATION IN EVAPORATED AL/SI FILMS
VANGURP, GJ
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1973, 44 (05) : 2040 - 2050