NEW HYBRID (E-BEAM-X-RAY) EXPOSURE TECHNIQUE FOR HIGH ASPECT RATIO MICROSTRUCTURE FABRICATION

被引：23

作者：

HATZAKIS, M

HOFER, D

CHANG, THP

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570259

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1631 / 1634

页数：4

共 5 条

[1] CHANG THP, 1979, Patent No. 4165395
[2] REPLICATION OF 0.1-MUM GEOMETRIES WITH X-RAY LITHOGRAPHY
FEDER, R
SPILLER, E
TOPALIAN, J
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06): : 1332 - 1335
[3] HATZAKIS M, 1978, 8 P INT C EL ION BEA, P285
[4] HYBRID E-BEAM-DEEP-UV EXPOSURE USING PORTABLE CONFORMABLE MASKING (PCM) TECHNIQUE
LIN, BJ
CHANG, THP
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06): : 1669 - 1671
[5] SPETH AJ, 1975, J VAC SCI TECHNOL, V12, P1238