RE-EMISSION OF SPUTTERED SIO2 DURING GROWTH AND ITS RELATION TO FILM QUALITY

被引:52
作者
MAISSEL, LI
JONES, RE
STANDLEY, CL
机构
关键词
D O I
10.1147/rd.142.0176
中图分类号
TP3 [计算技术、计算机技术];
学科分类号
0812 ;
摘要
引用
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页码:176 / &
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