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RE-EMISSION OF SPUTTERED SIO2 DURING GROWTH AND ITS RELATION TO FILM QUALITY
被引:52
作者
:
MAISSEL, LI
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MAISSEL, LI
JONES, RE
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JONES, RE
STANDLEY, CL
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STANDLEY, CL
机构
:
来源
:
IBM JOURNAL OF RESEARCH AND DEVELOPMENT
|
1970年
/ 14卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1147/rd.142.0176
中图分类号
:
TP3 [计算技术、计算机技术];
学科分类号
:
0812 ;
摘要
:
引用
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页码:176 / &
相关论文
共 11 条
[11]
ROLE OF HYDROGEN IN SPUTTERING OF NICKEL-CHROMIUM FILMS
STERN, E
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STERN, E
CASWELL, HL
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CASWELL, HL
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1967,
4
(03):
: 128
-
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共 11 条
[11]
ROLE OF HYDROGEN IN SPUTTERING OF NICKEL-CHROMIUM FILMS
STERN, E
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0
STERN, E
CASWELL, HL
论文数:
0
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CASWELL, HL
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1967,
4
(03):
: 128
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