NEGATIVE ELECTRON AFFINITY SURFACES ON SILICON USING A RUBIDIUM-OXYGEN DIPOLE LAYER

被引:19
作者
MARTINELLI, RU [1 ]
机构
[1] RCA, ELECTR COMPONENTS, DAVID SARNOFF RES CTR, ELECTRO-OPTICS LAB, PRINCETON, NJ 08540 USA
关键词
D O I
10.1063/1.1662613
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:2566 / 2570
页数:5
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