THE KINETICS OF LPCVD TUNGSTEN DEPOSITION IN A SINGLE WAFER REACTOR

被引:84
作者
MCCONICA, CM [1 ]
KRISHNAMANI, K [1 ]
机构
[1] AVX CORP,COLORADO SPRINGS,CO
关键词
D O I
10.1149/1.2108468
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
25
引用
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页码:2542 / 2548
页数:7
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