PROPERTIES OF HARD TUNGSTEN FILMS PREPARED BY SPUTTERING

被引：17

作者：

SHIH, KK

SMITH, DA

CROWE, JR

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1988年 / 6卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.575307

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1681 / 1685

页数：5

相关论文

共 22 条

[21] TUNGSTEN METALLIZATION FOR LSI APPLICATIONS
WAGNER, RS
SINHA, AK
SHENG, TT
LEVINSTEIN, HJ
ALEXANDER, FB
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1974, 11 (03): : 582 - 590
[22] IMPURITY EFFECTS IN MAGNETRON SPUTTER DEPOSITED TUNGSTEN FILMS
WICKERSHAM, CE
POOLE, JE
PALMER, KE
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1986, 4 (06): : 1339 - 1343