ION-IMPLANTED N-CHANNEL INP METAL-SEMICONDUCTOR FIELD-EFFECT TRANSISTOR

被引:33
作者
GLEASON, KR
DIETRICH, HB
HENRY, RL
COHEN, ED
BARK, ML
机构
关键词
D O I
10.1063/1.90141
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:578 / 581
页数:4
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