STATISTICAL METALLURGICAL MODEL FOR ELECTROMIGRATION FAILURE IN ALUMINUM THIN-FILM CCNDUCTORS

被引:90
作者
ATTARDO, MJ
RUTLEDGE, R
JACK, RC
机构
关键词
D O I
10.1063/1.1659778
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:4343 / &
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