ADSORPTION OF CO ON PLANAR AND OXYGEN-ETCHED SILICON SURFACES

被引:28
作者
DYLLA, HF
KING, JG
CARDILLO, MJ
机构
[1] MIT,ELECTR RES LAB,CAMBRIDGE,MA 02139
[2] MIT,DEPT PHYS,CAMBRIDGE,MA 02139
[3] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
关键词
D O I
10.1016/0039-6028(78)90277-7
中图分类号
O64 [物理化学(理论化学)、化学物理学];
学科分类号
070304 ; 081704 ;
摘要
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页数:27
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