A COMPARATIVE-STUDY OF THERMAL-STRESS INDUCED DISLOCATION GENERATION IN PULLED GAAS, INP, AND SI CRYSTALS

被引:117
作者
JORDAN, AS
CARUSO, R
VONNEIDA, AR
NIELSEN, JW
机构
关键词
D O I
10.1063/1.329154
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:3331 / 3336
页数:6
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