SIMPLIFICATION OF KAMPERS STRIATION ETCH FOR SILICON

被引：5

作者：

MAYER, KR ^{[1
]}

机构：

[1] SIEMENS AG,BGE 1,MUNICH 46,WEST GERMANY

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2403364

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1780 / 1782

页数：3

共 7 条

[1]

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