DEUTERIUM AND IMPURITY DEPOSITION PROFILES IN THE PLASMA EDGE OF ISX-B

被引:25
作者
ZUHR, RA
WITHROW, SP
ROBERTO, JB
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-3115(80)90310-4
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页数:6
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