ENHANCED DIFFUSION AND OUT-DIFFUSION IN ION-IMPLANTED SILICON

被引：39

作者：

MEYER, O

MAYER, JW

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1658431

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：4166 / &

共 18 条

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