COMPUTER-SIMULATIONS OF RESIST PROFILES IN X-RAY-LITHOGRAPHY

被引：34

作者：

HEINRICH, K

BETZ, H

HEUBERGER, A

PONGRATZ, S

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571255

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1254 / 1258

页数：5

相关论文

共 4 条

[1] CALCULATION OF THE OPTIMUM ELECTRON-ENERGY OF A DEDICATED STORAGE RING FOR X-RAY-LITHOGRAPHY
BETZ, H
FEY, FK
HEUBERGER, A
TISCHER, P
[J]. IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 1979, 26 (04) : 693 - 698
[2] MALDONADO JR, 1981, P INT C MICROLITHOGR
[3] SIMULATION OF X-RAY RESIST LINE EDGE PROFILES
NEUREUTHER, AR
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1978, 15 (03): : 1004 - 1008
[4] TISCHER P, 1978, 8TH P EL ION BEAM SC