ELECTRON-IRRADIATION EFFECTS IN MOS SYSTEMS

被引:10
作者
CHURCHILL, JN
COLLINS, TW
HOLMSTROM, FE
机构
[1] UNIV CALIF,DEPT ELECT ENGN,DAVIS,CA 95616
[2] SAN JOSE UNIV,DEPT PHYS,SAN JOSE,CA 95192
[3] IBM CORP,GEN PROD DIV,SAN JOSE,CA 95193
关键词
D O I
10.1109/T-ED.1974.18053
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:768 / 777
页数:10
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