SILICON DIOXIDE AND CHALCOGENIDE SEMICONDUCTORS - SIMILARITIES AND DIFFERENCES

被引:131
作者
MOTT, NF [1 ]
机构
[1] UNIV CAMBRIDGE, CAVENDISH LAB, CAMBRIDGE CB3 0HE, ENGLAND
关键词
D O I
10.1080/00018737700101413
中图分类号
O469 [凝聚态物理学];
学科分类号
070205 ;
摘要
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页码:363 / 391
页数:29
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