PREPARATION OF TUNGSTEN NITRIDE FILM BY CVD METHOD USING WF6

被引：89

作者：

NAKAJIMA, T

WATANABE, K

WATANABE, N

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2100365

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：3175 / 3178

页数：4

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共 5 条

[1]

CHONG Y, 1984, THESIS KYOTO U JAPAN

[2]

COTTON FA, 1966, ADV INORGANIC CHEMIS, pCH30

[3]

WATANABE N, 1981, DENKI KAGAKU, V49, P784

WATANABE, N ;

TERADA, T ;

CHONG, YB ;

NAKAJIMA, T .

[5]

YEE KK, 1978, INT MET REV, P19