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基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法
被引：15
作者：
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倪开灶
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中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室 上海大学材料科学与工程学院
王林军
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上海大学材料科学与工程学院 上海大学材料科学与工程学院
刘世杰
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中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室 上海大学材料科学与工程学院
吴伦哲
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上海大学材料科学与工程学院
中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室 上海大学材料科学与工程学院
机构：
[1] 上海大学材料科学与工程学院
[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室
来源：
关键词：
成像系统;
表面疵病;
背景校正;
图像梯度;
最大类间方差法;
D O I：
暂无
中图分类号：
TP391.41 [];
学科分类号：
080203 ;
摘要：
针对基于机器视觉的大口径光学元件表面疵病检测系统在成像过程中存在因照明不均匀等因素造成的图像背景不均匀等问题,采用了基于形态学的图像背景校正算法,提出了结合图像梯度和最大类间方差法的图像分割算法,实验结果表明,所提算法对于一定模糊程度的疵病图像具有较好的抗噪性能以及较高的提取精度。
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