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ZnO光电导紫外探测器的制备和特性研究
被引:139
作者
:
叶志镇
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机构:
浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学电机系,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州
叶志镇
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张银珠
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黄靖云
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吕建国
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:
[1]
浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学电机系,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学硅材料国家重点实验室浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州,浙江杭州
来源
:
电子学报
|
2003年
/ 11期
关键词
:
ZnO薄膜;
光电导紫外探测器;
欧姆接触;
光响应度;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN23 [紫外技术及仪器];
学科分类号
:
080508
[光电信息材料与器件]
;
摘要
:
以Si(111)衬底 ,用脉冲激光沉积 (PLD)法制得C轴高度择优取向的ZnO薄膜 ,并利用剥离技术制备了ZnO光导型紫外探测器 .Al叉指状电极是由平面磁控溅射技术沉积得到的 .对Al/ZnO/Al的伏安特性和紫外光响应的研究表明 ,金属铝和ZnO能形成很好的欧姆接触 ,紫外探测器的电阻值在 10 0KΩ左右 .在紫外区域 ,其 5V偏压下的光响应度为0 .5A/W .
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页码:1605 / 1607
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[1]
直流磁控溅射ZnO薄膜的结构和室温PL谱
[J].
叶志镇
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浙江大学硅材料国家重点实验室!杭州,浙江大学硅材料国家重点实验室!杭州,浙江大学硅材料国家重点实验室!杭州,浙江大学硅材料国家重点实验室!杭州,浙江大学硅材料国家重点实验室!杭州
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.
半导体学报,
2001,
(08)
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[2]
Ultraviolet detectors based on epitaxial ZnO films grown by MOCVD
[J].
Liu, Y
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Rutgers State Univ, Dept Elect & Comp Engn, Piscataway, NJ 08854 USA
Liu, Y
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Gorla, CR
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直流磁控溅射ZnO薄膜的结构和室温PL谱
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叶志镇
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Ultraviolet detectors based on epitaxial ZnO films grown by MOCVD
[J].
Liu, Y
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