温度对飞秒激光沉积ZnO/Si薄膜的结构和性能的影响

被引：10

作者：

杨义发

龙华

杨光

戴能利

郑启光

陆培祥

机构：

[1] 华中科技大学武汉光电国家实验室

来源：

中国激光 | 2007年 / 09期

基金：

高等学校博士学科点专项科研基金;

关键词：

薄膜; ZnO薄膜; 飞秒激光沉积; 纳米晶结构;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

通过飞秒脉冲激光(50 fs,800 nm,1 kHz,2 mJ)沉积技术在n型Si(100)单晶基片上制备了ZnO薄膜.详细研究了基片温度变化以及退火处理对ZnO薄膜的结构、表面形貌及光学性质的影响.X射线衍射(XRD)结果表明,不同温度下(20～350℃)生长的ZnO薄膜具有纤锌矿结构,并且呈c轴择优取向;当基片温度为80℃时,薄膜沿(002)晶面高度择优生长;当基片温度为500℃时薄膜沿(103)晶面择优生长,场发射扫描电子显微镜(FEEM)结果表明薄膜呈纳米晶结构,并观察到了ZnO的六方结构.进一步通过透射光谱的测量讨论了基片温度及退火处理对ZnO薄膜光学透射率的影响,结果表明退火后薄膜的透射率增大.

引用

页码：1282 / 1286

页数：5

共 7 条

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