高分辨率投影光刻机光瞳整形技术

被引：13

作者：

胡中华 ^{[1
,2
]}

杨宝喜 ^{[1
]}

朱菁 ^{[1
]}

肖艳芬 ^{[1
,2
]}

曾爱军 ^{[1
]}

黄立华 ^{[1
]}

赵永凯 ^{[1
]}

黄惠杰 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室

[2] 中国科学院研究生院

来源：

激光与光电子学进展 | 2011年 / 11期

关键词：

光学制造; 光刻; 离轴照明; 光瞳整形; 衍射光学元件; 微透镜阵列; 微反射镜阵列;

D O I：

暂无

中图分类号：

O439 [应用光学]; TN405 [制造工艺];

学科分类号：

070207 ; 0803 ; 080903 ; 1401 ;

摘要：

在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强,获得更好的成像性能。概述了高分辨率投影光刻机照明系统中基于衍射光学元件(DOE)、微透镜阵列(MLA)和微反射镜阵列(MMA)的3种光瞳整形技术,并对这些技术的工作原理、设计制作方法和性能特点进行了归纳与总结。

引用

页码：42 / 49

页数：8

共 8 条

[1] 数字微镜器件用于光束空间整形 [J].