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化学气相淀积反应器中成核与成膜控制
被引:8
作者
:
李春忠
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机构:
华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所上海,上海,上海,上海
李春忠
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胡黎明
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袁渭康
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陈敏恒
机构
:
[1]
华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所上海,上海,上海,上海
来源
:
化工学报
|
1993年
/ 05期
关键词
:
化学气相淀积;
粒度分布;
薄膜生长;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
基于气溶胶动力学和化学反应动力学,建立了化学气相淀积(CVD)反应器中普适动力学方程,导出了CVD反应器中超细颗粒粒径分布谱函数和薄膜淀积速率的计算方法;研究了操作参数对钛酸丁酯高温裂解过程中成核与成膜的影响.用成核与成膜竞争判据——H准数,研究了CVD反应器中成核与成膜的控制策略.
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