化学气相淀积反应器中成核与成膜控制

被引:8
作者
李春忠
胡黎明
袁渭康
陈敏恒
机构
[1] 华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所上海,上海,上海,上海
关键词
化学气相淀积; 粒度分布; 薄膜生长;
D O I
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中图分类号
学科分类号
摘要
基于气溶胶动力学和化学反应动力学,建立了化学气相淀积(CVD)反应器中普适动力学方程,导出了CVD反应器中超细颗粒粒径分布谱函数和薄膜淀积速率的计算方法;研究了操作参数对钛酸丁酯高温裂解过程中成核与成膜的影响.用成核与成膜竞争判据——H准数,研究了CVD反应器中成核与成膜的控制策略.
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共 2 条
[1]
CVD反应器中成膜与成核竞争机制的实验研究 [J].
胡黎明 ;
李春忠 .
化学世界, 1993, (08)
[2]
AlN 粉末制备的热力学分析和实验研究 [J].
李春忠 ;
胡黎明 ;
陈敏恒 .
无机材料学报, 1992, (04) :397-404