先进光刻胶材料的研究进展

被引：26

作者：

许箭

陈力

田凯军

胡睿

李沙瑜

王双青

杨国强

机构：

[1] 北京分子科学国家实验室中国科学院化学研究所光化学重点实验室

来源：

影像科学与光化学 | 2011年 / 29卷 / 06期

关键词：

光刻胶; 193nm光刻; EUV光刻; 化学放大光刻胶; 分子玻璃;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.

引用

页码：417 / 429

页数：13

共 7 条

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