纳米硅薄膜界面结构的微观特征

被引：11

作者：

何宇亮，褚一鸣，王中怀，刘湘娜，白春礼

机构：

[1] 北京航空航天大学非晶态物理研究室，中国科学院北京电子显微镜开放实验室，中国科学院化学研究所ＳＴＭ实验室，南京大学物理系及固体微结构实验室

来源：

关键词：

纳米硅薄膜; 图象; 界面结构; 等离子体增强化学汽相沉积; 显微结构; 晶粒; 颗粒; 何宇亮; 微观特征;

D O I：

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中图分类号：

TN304.055 [];

学科分类号：

摘要：

对使用等离子体增强化学汽相沉积法（ＰＥＣＶＤ）制备的纳米硅薄膜（ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ），使用ＨＲＥＭ及ＳＴＭ技术观测了其显微结构，给出大量的界面结构图象．首次获得有关晶粒及界面区中原子的分布情况．使我们认识到ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ膜中界面区内的硅原子仍然是具有短程有序性并不是完全无序的．

引用

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页数：5