MoS2-Au共溅膜的结构与性能之研究

作者利用扫描电子显微镜（SEM）、X-射线衍射仪（XRD）,俄歇电子能谱仪（AES）和X—射线光电子能谱仪（XPS）等对MoS2-Au共溅膜的形貌和结构进行了观察与分析,并就这种膜的厚度对耐磨寿命的影响及其抗湿性与MoS2溅射膜的作了比较,认为共溅膜的柱状聚集体结构是其具有良好性能的原因。溅射时氩气压强对MoS2-Au膜结构和性能影响的研究结果表明,不同氩气压强下得到的MoS2之结晶度不同,因而共溅膜的摩擦学性能也不相同。作者还就膜与底材的结合强度同耐磨寿命的关系,以及底材表面缺陷对膜结构的影响进行了讨论。