光刻机光瞳整形衍射光学元件远场多参数检测方法

被引：9

作者：

胡中华 ^{[1
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朱菁 ^{[1
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杨宝喜 ^{[1
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彭雪峰 ^{[1
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曾爱军 ^{[1
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黄惠杰 ^{[1
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机构：

[1] 中科院上海光学与精密机械研究所信息光学与光电技术实验室

[2] 中国科学院大学

来源：

中国激光 | 2013年 / 40卷 / 09期

关键词：

测量; 光学检测; 衍射光学元件; 多参数检测; 经纬坐标变换;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

光刻机光瞳整形普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对其光学特性的检测需求,提出了一种光刻机光瞳整形DOE远场多参数检测方法。该方法通过对远场光强分布进行转换,可同时获得DOE远场衍射图样的极平衡性、极张角、极方位角、半孔径角和径向光强分布等多种光学特性参数。实验中,对国外加工的产生四极照明模式的DOE进行了远场多参数检测与分析,结果表明该方法可以满足光刻机光瞳整形DOE的检测要求。

引用

页码：172 / 176

页数：5

共 5 条

[1] 极紫外光刻离轴照明技术研究 [J].