掩模移动技术中的边框效应及其应用

被引：4

作者：

曾红军

陈波

郭履容

邱传凯

杜春雷

机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室!四川成都

[2] 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家

来源：

光电工程 | 2000年 / 05期

关键词：

掩模移动技术; 微光学元件; 边框效应;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305 [半导体器件制造工艺及设备];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办法 ,并利用它来降低掩模移动技术的对称性要求 ,在实验中制作出了面形复杂的连续浮雕微光学元件。

引用

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