Al2O3衬底上生长ZnO薄膜的结构和光学特性<spanid="corr-video"class="type"style="display:none">附视频</span>

被引：4

作者：

汪洪 ^{[1
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苏凤莲 ^{[1
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宋学平 ^{[1
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刘艳美 ^{[1
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李爱侠 ^{[1
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周圣明 ^{[2
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孙兆奇 ^{[1
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机构：

[1] 安徽大学物理与材料科学学院安徽省信息材料与器件重点实验室

[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所

来源：

人工晶体学报 | 2006年 / 02期

关键词：

ZnO薄膜; 脉冲激光沉积; X射线衍射; 光致发光谱;

D O I：

10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2006.02.022

中图分类号：

O484.4 [薄膜的性质];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

用脉冲激光沉积法在A l2O3(0001)衬底上沉积了ZnO薄膜。衬底温度分别为300℃、400℃、500℃、600℃和700℃。利用X射线衍射(XRD)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构和光学性能进行研究。X射线衍射的结果表明在不同温度下生长的ZnO薄膜均具有高度c轴择优取向,衬底温度400℃时,膜的应力较小质量较高。ZnO薄膜有很强的紫外发光峰,紫外发光峰的强度与衬底温度密切相关,并发现当衬底温度从300℃增到400℃时,紫外发射峰出现6nm的蓝移。

引用

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