直流射频等离子体增强化学气相沉积类金刚石碳薄膜的结构及摩擦学性能研究

被引：22

作者：

李红轩

徐洮

陈建敏

周惠娣

刘惠文

机构：

[1] 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室

[2] 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室甘肃兰州　

[3] 甘肃兰州　

来源：

摩擦学学报 | 2004年 / 01期

关键词：

直流射频等离子增强化学气相沉积; 类金刚石碳薄膜; 结构; 摩擦学性能;

D O I：

10.16078/j.tribology.2004.01.001

中图分类号：

TG174.44 [金属复层保护];

学科分类号：

摘要：

利用直流射频等离子增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石碳薄膜.采用Raman光谱、红外光谱、X射线光电子能谱和原子力显微镜等研究了薄膜的微观结构和表面形貌,在UMT-2MT型摩擦磨损试验机上考察了薄膜在不同载荷与滑动速度下的摩擦学性能.结果表明:所制备的类金刚石碳薄膜具有典型的类金刚石结构特征,薄膜均匀、致密,表面粗糙度小,硬度较高;薄膜与Si3N4陶瓷球对摩时显示出良好的抗磨减摩性能;随着试验载荷与滑动速度的提高,薄膜的摩擦系数降低,耐磨寿命降低;薄膜的减摩抗磨性能同其在Si3N4陶瓷球偶件磨损表面形成的转移膜相关.

引用

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