微束斑X射线源及X射线光学元件

被引：9

作者：

王凯歌 ^{[1
]}

王雷 ^{[2
]}

牛憨笨 ^{[3
]}

机构：

[1] 西北大学光子与光子技术研究所

[2] 西安应用光学研究所

[3] 深圳大学光电子学研究所科研处

来源：

应用光学 | 2008年 / 02期

关键词：

微束斑X射线源; X射线光学; X射线光学元件;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH744 [物理光学仪器];

学科分类号：

摘要：

高质量的X射线源,尤其高亮度的微纳束斑X射线源是现代X射线光学高清晰成像最为关键的部件之一,在工业无损探伤、生命科学、材料科学等科学研究和实际应用中具有重要的意义。简单介绍了微束斑X射线源的产生方法及发展历史,并对微束X射线光学涉及到的聚焦X射线光学元件(如X射线掠入射反射镜、布拉格法反射镜、多层膜反射镜、多层膜光栅、X射线波带片、毛细管聚焦透镜和复合折射透镜等)的主要特点作了简要的系统介绍。最后展望了微细束X射线在微纳检测与分析等方面的应用前景。

引用

页码：183 / 191

页数：9

共 5 条

[1] 聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源
王凯歌
王雷
王鹏业
牛憨笨
[J]. 应用光学, 2004, (01) : 5 - 8+38
[2] 软X射线投影光刻技术
金春水
王占山
曹健林
[J]. 强激光与粒子束, 2000, (05) : 559 - 564
[3] 王凯歌.微束斑X射线源的理论与实验研究[D].中国科学院研究生院（西安光学精密机械研究所）,2002
[4] TSUJI K,SATO T,WAGATSUMA K,et al.Pre-liminary experiment of total reflection x-rayfluorescence using two glancing x-ray beamsexcitation[K].Review of Scientific Instruments,1999
[5] HILDEBRANDT G,BRADACZEK H.Approa-ching real x-ray optics[K].The Rigaku Journal,2000

← 1 →