三倍频分光膜在1064nm的破斑特性研究

被引:10
作者
崔云
赵元安
晋云霞
范正修
邵建达
机构
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所
关键词
薄膜光学; 激光损伤阈值; 破斑深度; 缺陷;
D O I
暂无
中图分类号
O484.41 [];
学科分类号
0803 ;
摘要
采用电子束蒸发方式制备了两种不同材料组合的分光膜,分别对其在波长1064 nm激光辐照下的损伤阈值进行了测试,用Alpha-Step 500台阶仪对破斑进行了深度测量。实验结果表明,破斑呈现出表面层的剥落和深坑破坏两种形态。表面层的剥落深度在一定范围内不随能量密度的变化而变化;深坑破坏深浅不一,是膜内缺陷融化、汽化及喷发的综合作用的结果,是损伤阈值降低的主要原因。
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