基于专利计量的集成电路制造领域国际技术合作特征研究

被引：15

作者：

刘云 ^{[1
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闫哲 ^{[2
]}

程旖婕 ^{[2
]}

叶选挺 ^{[2
]}

机构：

[1] 中国科学院大学公共政策与管理学院

[2] 北京理工大学管理与经济学院

来源：

科学学与科学技术管理 | 2018年 / 39卷 / 08期

基金：

国家重点研发计划;

关键词：

集成电路制造; 专利计量; 国际技术合作; 社会网络分析;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN40 [一般性问题];

学科分类号：

摘要：

在建立集成电路制造领域国际合作专利数据库的基础上,采用专利关联度分析、社会网络分析等方法对世界各国进行国际技术合作的发展潜力、发展现状和合作效果进行分析,以把握该领域国际合作特征,揭示我国的优势和差距。结果发现:(1)美国在该领域拥有最强的技术创新及国际合作技术创新能力,德国与中国台湾则拥有较大的发展潜力;(2)亚、欧两洲因集群创新成为国际技术合作较成功区域,但集群内合作研究领域的趋同性阻碍了其进一步发展。最后,提出进一步提升我国国际合作水平的政策建议。

引用

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页数：13

共 28 条

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