激光直写方法制作透明导电金属网栅

被引：11

作者：

李凤友

卢振武

谢永军

曹召良

高劲松

孙连春

赵晶丽

机构：

[1] 中国科学院长春光机与物理研究所应用光学国家重点实验室,中国科学院长春光机与物理研究所应用光学国家重点实验室,中国科学院长春光机与物理研究所应用光学国家重点实验室,中国科学院长春光机与物理研究所应用光学国家重点实验室,中国科学院长春光机与物理研究所应用光学国家

来源：

关键词：

激光直写光刻; 掩模; 金属网栅; 电磁屏蔽;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN249 [激光的应用];

学科分类号：

摘要：

介绍了利用激光直写光刻技术在 2 0 0mm× 2 0 0mm基片上制作线宽为 5 μm ,周期为35 0 μm的红外透明导电金属网栅的工艺过程 ,对激光直写光刻技术和机械刻划掩模接触光刻制作金属网栅结构的两种方法进行了比较 ,给出了激光直写制作金属网栅的优点

引用

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