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X 射线双晶衍射在新材料研究中的应用
被引:2
作者
:
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机构:
朱南昌
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机构:
李润身
论文数:
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机构:
陈京一
机构
:
[1]
中国科学院上海冶金研究所
来源
:
材料科学进展
|
1991年
/ 02期
关键词
:
离子注入;
X 射线双晶衍射;
计算机模拟;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文介绍了 X 射线双晶衍射术的基本原理。描述了双晶衍射技术在半异体材料的离子注入、单层及多层异质结外延膜、应变超晶格等新型材料研究中的应用。给出了双晶衍射对 Si 中高能 B+注入和 InxGa1-xAs/GaAs 超晶格研究的实例。
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晶体表面畸变的X射线双晶衍射研究
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朱南昌
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物理学报,
1990,
(05)
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(10)
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-1709+1729
[4]
X射线衍衬貌相学.[M].许顺生;冯端 主编.科学出版社.1987,
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晶体表面畸变的X射线双晶衍射研究
[J].
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1989,
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[4]
X射线衍衬貌相学.[M].许顺生;冯端 主编.科学出版社.1987,
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