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双源共蒸法制备非均匀膜的模型分析
被引:10
作者
:
沈自才
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机构:
中国科学院上海光学精密机械研究所
沈自才
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机构:
王英剑
范正修
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机构:
中国科学院上海光学精密机械研究所
范正修
论文数:
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机构:
邵建达
机构
:
[1]
中国科学院上海光学精密机械研究所
来源
:
物理学报
|
2005年
/ 01期
关键词
:
非均匀膜;
共蒸法;
模型;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O484 [薄膜物理学];
学科分类号
:
080501 ;
1406 ;
摘要
:
探讨了双源共蒸法制备非均匀薄膜的堆积模型 ,并给出了非均匀膜的沉积速率与两种膜料沉积速率的关系 .当两种膜料的沉积单分子大小近似相等或者小分子沉积速率远大于大分子时 ,可以近似认为混合介质膜的沉积速率等于两种膜料的沉积速率之和 ;当两种膜料的沉积单分子大小不满足近似相等且两种膜料的沉积速率可比较时 ,非均匀膜的沉积速率不能简单地用两种膜料的沉积速率之和来近似 ,它将随两种膜料沉积单分子的大小不同和沉积速率比不同按照不同的规律变化 ,并在文中给出了不同情况下的非均匀膜的沉积速率变化规律
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页数:7
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-796
[3]
无机材料科学基础.[M].陆佩文主编;.武汉工业大学出版社.1996,
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