浸没式光刻技术的研究进展

被引：16

作者：

袁琼雁 ^{[1
]}

王向朝 ^{[1
]}

施伟杰 ^{[2
]}

李小平 ^{[3
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室

[2] 哈尔滨工业大学深圳研究生院激光信息技术研究中心

[3] 华中科技大学机械科学与工程学院

来源：

关键词：

光刻; 浸没式光刻; 投影物镜; 浸没液体; 偏振光照明; 气泡;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405.7 [];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径,可以将193nm光刻延伸到45nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理,讨论了液体浸没带来的问题,最后介绍了浸没式光刻机的研发进展。

引用

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